原速科技完成 B + 轮融资 深耕 ALD 技术加速薄膜材料制备领域突破

　　近日，专注于原子层沉积(ALD)系统设计与工艺研发的高科技企业 —— 原速科技宣布完成 B + 轮融资。此次融资将为公司在核心技术突破、全球市场布局拓展等方面注入新动能，助力其持续深耕薄膜材料制备技术，为多个产业领域提供更优质的一体化解决方案。

　　聚焦 ALD 技术，打造全链条服务能力

　　原速科技作为国内原子层沉积(ALD)技术领域的领先者，深耕于薄膜材料制备这一高精尖领域。原子层沉积技术是一种可以在基片表面通过化学反应逐层沉积薄膜的方法，具有沉积薄膜均匀性好、厚度可控性高、台阶覆盖率优异等特点，在众多高端制造领域有着不可替代的作用。

　　公司集设备设计、工艺开发与技术咨询于一体，构建起了完整的服务链条。通过自主研发的 ALD 系统，结合针对性的工艺方案，能够满足不同行业对薄膜材料在性能、厚度、均匀性等方面的个性化需求，为产业技术升级提供坚实的技术支撑。

　　多领域广泛应用，推动产业创新发展

　　原速科技的一体化薄膜材料制备解决方案已在多个高精尖领域实现广泛应用：

　　柔性显示领域：借助 ALD 技术制备的功能性薄膜，可提升柔性显示屏的耐弯折性、透光性和使用寿命，助力柔性显示技术向更轻薄、更耐用方向发展;

　　光学镀膜领域：能制备出高精度的光学薄膜，应用于镜头、滤光片等光学元件，提高其光学性能，满足高端光学设备的需求;

　　太阳能电池领域：通过在电池表面沉积特定薄膜，可增强光吸收能力、降低光反射，从而提高太阳能电池的转换效率;

　　锂电池领域：利用 ALD 技术在电极或隔膜表面制备保护层，能够提升锂电池的循环稳定性、安全性和能量密度，推动锂电池性能优化。

　　融资助力发展，剑指全球市场

　　此次 B + 轮融资的完成，是资本市场对原速科技在 ALD 技术领域实力与发展潜力的认可。借助这笔资金，公司将进一步加大在核心技术研发上的投入，持续优化 ALD 系统性能与工艺方案，突破更多技术瓶颈。

　　同时，资金也将支持原速科技加速全球市场布局，拓展海外业务，将其先进的薄膜材料制备解决方案推向更广阔的国际舞台，与全球同行展开竞争与合作，推动相关产业在全球范围内的技术升级与创新发展。

　　在薄膜材料制备技术日益受到重视的当下，原速科技凭借其技术积累与此次融资的助力，有望在该领域取得更大突破，为我国高端制造产业的发展贡献重要力量。